事。
说起这个沉浸式光刻机，也是曹鹏云能想到的最容易卡死光刻机技术的一项技术。
因为它相对简单，只是用纯水或者纯油之类的就行。
可也就是这个技术，也是asml崛起与尼康衰落的分界点。
在1999年的时候。
光刻机的光源波长被卡死在193nm，成为了摆在全产业面前的一道难关。
大半个半导体业界都参与进来，大家都想着各种法子突破。
尼康等公司主张用前代技术的基础上，采用157nm的f2激光，走稳健道路。
新生的euvllc联盟则押注更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。
但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。
这时候湾积电出现了一个叫做木本坚的工程师。
他想到水会影响光的折射率，提出在透镜和硅片之间加一层水，让原有的193nm激光经过折射，直接越过157nm的天堑，降低到132nm。
不过很可惜,当年的木本坚拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍米国、得国、小日子等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。
甚至有一些半导体公司高层还给湾积电ceo捎了句狠话，让他管好木本坚不要让他跳出来搅局。
毕竟木本坚说的这个方案只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。
如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。
于是，尼康继续选择了在干式微影157nm这一条道上走到黑。
可他却没发现自己背后有位虎视眈眈的搅局者。
当时只是一个非常小的小角色asml决定赌一把。
也许当时他们想着反正，自己公司也就那样了，和那几家大公司再差也差不到哪去。
而且相比在传统干式微影上的投入和那些大公司拼刺刀，还不如押注浸润式技术这种可能以小博大的技术。
于是asml和木本坚一拍即合，仅用一年时间。
在2004年就拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下ibm和湾积电等大客户的订单。
而尼康晚了半步，很快亮出了干式微影157nm技术的成品。
可惜被asml抢了头阵，更何况波长还略落后于对手，asml是132nm，而他是157nm。
等到一年后尼康完成了对浸润式技术的追赶，客户却已经被asml全带跑了。
从此，尼康开始没落。
想到这里，曹鹏云感觉自己语气都有些颤抖：“能做到多少nm？”
这边的徐端仪同样激动：“理论上是可以达到曹厂长你说的132nm，可你也知道，我们在精密机械方面并不是非常过关，所以大概在250nm左右。”
第85章 沉浸式光刻机技术成功[2/2页]